步進(jìn)曝光機是一種用于光刻（半導(dǎo)體和液晶制造工藝）的投射曝光設(shè)備。

隨著IC電路圖案的小型化，制作全尺寸光掩模圖案變得困難。這是指在對大于實際尺寸的掩模圖案進(jìn)行縮小投影曝光時進(jìn)行分步重復(fù)曝光的曝光設(shè)備

步進(jìn)機是一種曝光設(shè)備，通過執(zhí)行步進(jìn)和重復(fù)來曝光整個待曝光區(qū)域。

步進(jìn)機的使用

步進(jìn)機用于半導(dǎo)體和液晶的制造，特別是用于光刻過程中使用掩模的曝光處理。

步進(jìn)法包括步進(jìn)重復(fù)法和步進(jìn)重復(fù)法，其中，由于一次可以轉(zhuǎn)移的面積較小，因此在步進(jìn)時將晶圓順序曝光；以及步進(jìn)重復(fù)法，其中稱為掃描儀的標(biāo)線和存在一種使用步進(jìn)機進(jìn)行曝光的類型，該類型與步進(jìn)機不同，并且可以將其視為掃描儀。